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Chen, J.; 浅野 雅春; 八巻 徹也; 吉田 勝
Journal of Materials Science, 41(4), p.1289 - 1292, 2006/02
被引用回数：22 パーセンタイル：58.41(Materials Science, Multidisciplinary)電解質膜の耐久性を向上させるために、スチレンに代わるモノマーとして、スチレンの誘導体であるメチルスチレン(MeSt)及びt-ブチルスチレン(tBuSt)さらに架橋剤として、高密度の架橋構造の付与が期待できるジビニルベンゼン(DVB)を組合せた新規な電解質膜を放射線グラフト重合法により合成した。このようにして得た36%のグラフト率を持つ電解質膜は、ゴア膜に比べて高いプロトン導電性を持つことがわかった。また、膜の安定性は、スチレン/DVB膜に比べて3倍向上した。
Chen, J.; 浅野 雅春; 八巻 徹也; 吉田 勝
Journal of Membrane Science, 269(1-2), p.194 - 204, 2006/02
被引用回数：140 パーセンタイル：96.07(Engineering, Chemical)高性能の電解質膜を得るために、スチレンに代わるモノマーとして、スチレンの誘導体であるメチルスチレン(MeSt)及びt-ブチルスチレン(tBuSt)さらに架橋剤として、電解質膜に導入した時に柔軟性の付与が期待できるビスビニルフェニルエタン(BVPE)と高密度の架橋構造の付与が期待できるジビニルベンゼン(DVB)を組合せた新規な電解質膜を放射線グラフト重合法により合成した。得られた四元系MeSt/tBuSt/DVB/BVPE(40/40/2.5/17.5wt%)電解質膜の耐久性加速試験(60
C,3%過酸化水素水溶液中)の結果、スルホン酸基の脱離時間が300時間に達した。また、メタノール透過性ではナフィオンに比べて、四元系電解質膜は1/6まで抑制できることがわかった。
柴田 大受; 菊地 孝行; 宮本 智司*; 小倉 一知*
Nuclear Engineering and Design, 223(2), p.133 - 143, 2003/08
被引用回数：1 パーセンタイル：10.88(Nuclear Science & Technology)高温工学試験研究炉(HTTR)は、様々な照射試験のために高温で大きな照射空間を提供することができる。HTTRの最初の照射設備としてI-I型材料照射試験用設備が開発された。これは、ステンレス鋼の照射下クリープ試験を標準サイズの大型試験片を用いて実施するためのものである。この設備では照射温度制御に炉内の高温の雰囲気を利用する設計としており、照射温度は550Cと600Cで
3Cの変動範囲で実施することを目標としている。本研究は、試験片の照射温度の安定性を解析的及び実験的手法により評価したものである。まず、過渡状態における試験片温度の変化を有限要素法(FEM)により解析し、次にモックアップを用いて温度制御性を実験的に検証した。さらに、得られた結果をHTTRの出力上昇試験で測定された炉内黒鉛構造物の温度変化特性と比較検討した。その結果、I-I型材料照射試験用設備の温度制御方法が、安定な照射試験を実施するうえで有効であることを示した。
長谷川 琢也*; 羽澄 昌史*; 笠井 聖二*; 徳宿 克夫*; 山田 作衛*; 小嶋 拓治; 清水 透*
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A, 311, p.498 - 504, 1992/00
被引用回数：17 パーセンタイル：81.27(Instruments & Instrumentation)ポリスチレンを基材とした新しい型のシンチレータについて、長期安定性、放射線に対する感度及びdE/dxが大きい場合の光透過飽和特性について試験を行った。また、一般的によく使用されているSCSN38シンチレータとの特性比較を行った。今回試作した8種のシンチレータの多くは、1000日で10%以下の光収率変化しかなく、また中でもSCSN81T2は、最も耐放射線性が高かった。dE/dxが大きい場合の光透過飽和特性については、いずれも差がなかった。SCSN61T2,81T2及び81T2Bの三種は、SCSN38よりも大きい光収率を示した。これらはさらにシンチレータ内における自己光減衰長さがSCSN38よりも長い優れた特性をもつことが明らかとなった。
河西 俊一; 萩原 幸
Radiation Physics and Chemistry, 27(1), p.65 - 70, 1986/00
有機高分子材料が放射線照射環境下で使用される機会が増大し、その耐放射線性付与技術の確立が重要な研究課題となってきている。高分子の耐放射線性の向上に、芳香族化合物の添加が有効であることはよく知られているが、作用機構については不明な部分が多い。我々はこの作用機構の解明の一端として、励起エネルギー移動による安定化に注目し、芳香族化合物を添加した高分子の発光挙動の研究を進めている。本論文では、電子線照射下で高分子の励起発光を測定する装置の試作とその概容を報告する。また、芳香族化合物として、アセナフテン、およびアセナフチレンを種々の合成高分子(エチレンプロピレンジエン共重合体、シス-1,4-ポリブタジエン、およびスチレンブタジエンゴム)に添加した系での励起エネルギー移動の確認と、その高分子依存性について述べる。
貴家 恒男; 早川 直宏; 吉田 健三; 萩原 幸
Polymer, 26, p.1039 - 1045, 1985/00
被引用回数：84 パーセンタイル：95.03(Polymer Science)主鎖が芳香環で構成された10種類の芳香族系ポリマーの電子線による劣化挙動を引張り試験にもとずく力学的特性の変化から検討した。熱および紫外線に対して良好な耐性を示すこれらポリマーも電子線に対し異なった耐放射線性を示した。また、耐放射線性はそれぞれのポリマーの化学構造と密接に関係することが明らかとなった。ポリマー自体の耐放射線性と化学構造を相互に比較することにより、ポリマーを構成するユニットの電子線に対する安定性のおおよその序列を決定することができた。
諏訪 武
JAERI-M 8529, 180 Pages, 1979/10
放射線重合法により、乳化剤を添加することなく水媒体中で、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)ラテックスを合成しうるという興味ある事実を見いした。安定なラテックス状でしかも高分子量(2
10
以上)のPYFEを得るために、重合挙動、ラテックスの安定化機構とその安定性、および得られたPTFEの融解・結晶化挙動について系統的に研究を行った。PTFEは照射線量率/モノマー仕込み量の比が大きい場合に安定なラテックス、小さい場合には不安定なラテックスで生成する。ラテックスの安定化は主として照射によって生成したポリマー鎖末端のカルボキシル基およびフッ化水素とOH
の吸着による。また、ラジカル捕捉剤を添加することにより高分子量のPTFEを得た。また、PTFEの結晶化熱から分子量を求める方法を見いだした。
諏訪 武; 渡辺 光崇; 岡本 次郎; 町 末男
Journal of Polymer Science; Polymer Chemistry Edition, 17(2), p.503 - 516, 1979/00
乳化剤不在下の放射線乳化重合で得られたポリテトラフルオルエチレン(PTFE)ラテックスの安定性を検討するために電気泳動による
電位の測定および電導度滴定を行った。放置安定性は線量率よりむしろ全照射線量に依存し、次の領域で安定なラテックスが得られた:logD
0.026V
-0.6 ここでDは照射線量(10
rad)、Vはラテックス中のポリマー濃度(g/l)である。安定性はモノマーが充分存在する重合中にのみ増加する。ラテックス粒子の電位は重合したままの状態(PH3)では-25~-50mVであり、PH10では-50~-65mVと安定性はアルカリ側で増加する。また表面電荷密度は水の放射線分解のG値から計算した値より電導度滴定による実測値の方が大きい。上の結果から粒子表面に酸が依存することは明らかである。これらの酸はカルボキシル基と吸着したフッ酸であると推測され、安定化はこれらの酸およびOHによるものである。
諏訪 武; 渡辺 光崇; 岡本 次郎; 町 末男
高分子論文集, 35(4), p.237 - 243, 1978/04
被引用回数：1このラテックス粒子表面は負の電荷を帯びており、電位のPH依存性と電導度滴定の結果からポリテトラフルオルエチレン(PTFE)粒子表面に酸が存在することが明らかとなった。重合反応機構から考えて、これらの酸はポリマー鎖末端に生成したカルボキシル基と粒子表面に吸着したフッ化水素(HF)であると推測される。ラテックス粒子の安定化は主に、これらの酸と水の放射線分解により生成したOHによるものと考えられる。疎水生粒子の分散安定性の理論(DLVO理論)に基づいて、このラテックス粒子間のポテンシャルエネルギー曲線を求め、実際に観察される現象と対比させたところ良く一致した。kcl濃度が110
mole/l以下であれば、この曲線の山は50kT以上ある。またこのラテックスはポリマー濃度60wt%程度になっても凝集しない。このことはエネルギー曲線の結果とよく一致する。
久保田 益充; 神波 康夫*; 中村 治人; 天野 恕
Journal of Radioanalytical Chemistry, 45(1), p.73 - 89, 1978/01
ポーラス型陽イオン交換樹脂DiaionCPK-08とゲル型樹脂Dowex50WX8の耐放射線性を調べた。はじめに両樹脂をKおよび硝酸系で
Co
線を照射した時の樹脂性能の変化を調べ、ついで照射した樹脂からの
Sr,
Csの硝酸による溶離特性を調べた。最後にDiaionCPK-08を加圧カラムに充填しCo線を210R/hrで照射しながら蒸留水を一定速度で流した時の圧力変化および樹脂の性能変化を調べた。これらの結果は両樹脂の間で耐放射線性に差はなく、硝酸の濃度の増加は強酸性陽イオン交換容量の変化を少なくするが樹脂の架強度および弱酸性陽イオン交換容量を増加した。Sr,Csのカラム分配比、理論段数は照射量の増加とともに減少した。加圧カラムの実験では100時間運転後に圧力が急激に上昇し、照射後の樹脂の性能変化は110R/hrで照射したカラム部で最大となった。
諏訪 武; 中島 隼人; 武久 正昭; 町 末男
Journal of Polymer Science; Polymer Letters Edition, 13(6), p.369 - 375, 1975/06
著者らはエチレンの放射線乳化重合について研究してきた。その一環として、乳化剤を全く用いないC
H
-HO系で重合を試みたところ非常に安定なラテックスが得られた。重合反応は50C以下になると気相でも起こるが、70C以上ではほとんど液相で反応が進行する。またラテックスの形状は、50C以下では扁平な球であるが70C以上では球状粒子(約2000A)である。このラテックスはPH3以下になると不安定であるが、アルカリ性に対してはPH12以上になっても安定である。水の放射線分解で生成するイオン種はH
、OHそれにeaqである。HClで伝導度滴定したところ当量点が出現した。ポリマー粒子表面にOHが吸着していると仮定して表面電荷密度を計算したところ1.5010coulomb/cm
で、これは妥当な値である。このように疎水性ポリマーが乳化剤の存在しない系で安定に存在できることは非常に興味深い。
諏訪 武; 山口 康市; 渡辺 光崇; 栗原 寛人; 和田 武*; 武久 正昭
JAERI-M 5477, 44 Pages, 1973/12
日本原子力研究所高崎研究所で開発されたエチレンの放射線重合プロセスは第3ブタノール-水混合系を重合媒体とし、ポリエチレンはスラリー状で得られる。そこで常圧、高圧下(20~400kg/cm)の粘度およびスラリーの凝集、分散等の安定性について検討した。常圧下のポリエチレン-第3ブタノール-水系スラリーの粘度は濃度の増加とともに急激に増大する。30Cで5、20、47g/lで粘度はそれぞれ50、1150、6760センチポイズである。高圧下のポリエチレン-エチレン-第3ブタノール-水系スラリーの粘度は圧力の増加とともに急激に減少する。400kg/cmではスラリー濃度が20g/l以下では数センチポイズと粘度はほぼ一定で、常圧の粘度に比較して著しく小さい。スラリーの凝集効果に対しては水およびHLBの低い非イオン性界面活性剤が有効である。
